反应离子刻蚀（关于反应离子刻蚀的介绍）

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1、RIE，全称是Reactive Ion Etching，反应离子刻蚀，一种微电子干法腐蚀工艺。

2、是干蚀刻的一种，这种蚀刻的原理是，当在平板电极之间施加10～100MHZ的高频电压（RF，radio frequency）时会产生数百微米厚的离子层（ion sheath），在其中放入试样，离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻，此即为RIE（Reactive Ion Etching）。

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